当社のGaN向けALEおよびALDシステムの受注が増加
オックスフォード・インストゥルメンツ、日本の主要なパワーエレクトロニクスおよびRFデバイスファウンドリー数社からGaN向けALEおよびALDシステムを受注
イオンビームエッチングは、優れた均質性を持ちながら最大の柔軟性を有し、広範な用途分野に適しています。当社のシステムには、大気装入、単一基板真空予備室、そしてカセット交換方式を含む、柔軟なハードウェアのオプションがあります。システムの仕様は、用途に合わせて綿密に調整され、迅速かつ再現性のある結果を実現します。
複数のモード機能
他のプラズマエッチングやプラズマデポジションのツールとのクラスター化が可能
単一ウェハー真空予備室またはクラスター方式ウェハー取り扱い
デュアルビーム配置
薄膜表面粗さが非常に小さい
他に類のない、バッチ均質性およびプロセス再現性
正確なエンドポイント検知-SIMS、発光分析
フレキシブルに行わなければならない研究やパイロット生産向けに設計されたコンパクトなイオンビームエッチングおよびデポジションシステムで、エッチングまたはデポジション用に最大2個(15cm)のイオンソースを装備しています。これにより、最大200mmウェハへのデポジションと、最大100mmウェハへのエッチングプロセスに最適です。
設置面積は基本的に同じですが、プロセスチャンバーが大きく、エッチングとデポジションの両方で最大200mmまでのウェハを処理できるように設計されています。30cmのエッチングイオンソースを装備したこのシステムは、優れたエッチング均一性と優れたプロセス安定性を提供し、パイロットおよびフルスケール生産に最適です。
オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟な信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。