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PlasmaPro 1000

最大面積におけるエッチングとデポジションが可能な製造ソリューションです。

  • 非常に大きいバッチサイズ

  • 高いスループット

  • 最適化されたデバイス品質

  • 低い所有コスト

  • 真空予備室方式、または3つのチェンバーまで対応できるクラスター方式が利用可能

  • 真空予備室が標準、クラスター方式がオプションとして装備

  • 優れた稼働率

  • 高品質のデバイス特性と高い歩留まり


お問い合わせ

LED業界では、当然なことながら、高スループットと高いデバイス特性、低い所有コストが求められています。PlasmaPro 1000は、これに対応できるソリューションです。

The PlasmaPro 1000 tools provide outstanding benefits for LED manufacturers

490mm electrode - Unparalleled throughput from industry leading batch sizes of up to 7 x 6” wafers

Reliable hardware and ease of serviceability - Excellent uptime

Maximised clamping - Enhanced wafer cooling

Z-movement electrode - Ultimate uniformity

Dual entry gas inlet - Easy process tuning

Unique carrier plate design - Efficient cooling of every wafer with minimal edge exclusion while being easy to use and maintain

High-conductance radial (axial symmetric) pumping configuration - Guaranteed enhanced process uniformity and rates are

  • High quality PECVD of silicon nitride and silicon dioxide for photonics, dielectric layers, passivation and many other uses
  • Hard mask deposition and etch for high brightness LED production
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グローバルな、お客様サポート

オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟、かつ信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。

  • 遠隔診断ソフトウェアにより、迅速で簡便な欠陥診断と問題解決を実現します。
  • ご予算と状況に合わせた、サポート契約も用意しております。
  • 迅速な対応を実現するため、戦略拠点にグローバル予備品を揃えています。
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オプション

PlasmaPro 1000 Astrea

PlasmaPro 1000 Astreaは、特にLED材料に要求される過酷な化学系に対応して設計されており、大きなウェハーバッチ全体で、均質な高速エッチングを実現します。また、稼働率および保守性を念頭に開発されています。

PlasmaPro 1000 Stratum PECVD システム

PlasmaPro 1000 Stratum PECVDは、特に、LED製造におけるパッシベーションのデポジションに対応して設計されています。電極が大面積で、シャワーヘッド設計が最適化されているので、1回の装入で、2”ウェハーを61枚、4”ウェハーを15枚、6”ウェハーを7枚について処理することが可能です。

その他アプリケーション

発光デバイスの製造と評価

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