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PlasmaPro ASP

PlasmaPro ASPは、企業/特殊研究開発向けの生産実績のあるプラットフォームをベースに、デバイスに組み込む優れた薄膜を形成することができるように設計されています。複数の化学反応が実行できるような柔軟性とともに、高速で成膜することが可能となります。当社の最先端プラズマALDシステムは、より高いスループットや膜厚を実現するためのスピードと、ALDの柔軟性、適合性、調整可能性を提供します。

  • 従来のリモートプラズマより3倍も高速

  • 環境やランニングコストに優しい少ないプリカーサー使用量

  • マテリアルの高いクオリティ

  • 低い所有コスト

  • メンテナンス性の向上

  • 高速プロセスを実現する低容積チャンバー

  • 基板の低ダメージ

  • 高いプロセス安定性


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Atomfabとプラットフォームを共有したPlasmaPro ASP により、高速かつ低ダメージのリモートプラズマ ALD が実現します。 リモートプラズマ ALD は、サーマルALD やダイレクトプラズマALDと比較して優れたデバイス性能をもたらすことが可能となります。迅速なガス交換のため有効チャンバー容積をコンパクト化し、200mmウェハ全体のプロセスが可能です。 

  • 高速リモートプラズマソース
    - 高密度かつ均一なラジカルと低イオンエネルギーによる低ダメージおよび急速飽和
    - PLCおよびAMU制御により、迅速なプロセスが可能
  • 優れたプリカーサーとプロセスの制御
    - 最大6個のプリカーサー(バブリングまたは蒸気式)
  • ウェハ電極
    - 200 mm ウェハ電極(バイアス付)
    - 最高 400 °C まで対応するデポジション温度
    - チャンバー内を 200 °C に加熱可能
  • 制御系
    - 容易なメンテナンスおよびシンプルな電気接続
    - 保守サービスのための診断機能の向上
    - 一体化されたエレクトロニクス
Chamber schematic PlasmaPro ASP
  • パワーエレクトロニクスやRFデバイス向け低ダメージ GaN HEMT パッシベーション層
    • 量子デバイスに最適。高速サイクルタイムを実現したオールメタル・プラズマソースを用いた低酸素濃度導電性窒化物
    • データ通信アプリケーション向け低ダメージ封止型グラフェン


    PlasmaPro ASP 3 um top22
    PlasmaPro ASP 3um bottom 26

    画像(上):アスペクト比8:1のトレンチに成膜された130nmのコンフォーマル超伝導NbN。PlasmaPro ASPを使用。


    PlasmaPro ASP Atomfab SiO2_ALD 04 q049

    画像(左): アスペクト比32:1のトレンチに成膜された450nmのコンフォーマルSiO2。PlasmaPro ASPを使用。

    仕様

    PlasmaPro ASP

    プリカーサー ライン

    最大 6 (任意の組み合わせが可能)​

    プリカーサー 量 (ml)

    200

    プリカーサー タイプ

    • 蒸気式 - 冷却型
    • 蒸気式 - 加熱型 ​
    • バブリング – 加熱型

    ハンドリング

    ロードロック

    ガスポッド

    4 プロセス + 1 Ar (オンボード) ​

    電極 

    400 °C (グラウンド・バイアスの両方)

    ポンプ

    600 m3/時

    遵守事項

    UL Standard, Designed for SEM 2S

    ソフトウェア

    PTIQ

    PEALD プロセス ライブラリ

    Al2O3, SiO2, NbN, TiN など

    PlasmaPro ASP
    カタログダウンロード

    Case Study

    We collaborate for over 15 years with Eindhoven University of Technology (TU/e) and together we continue to make significant progress in Atomic Layer Deposition (ALD) research which is one of the most rapidly evolving techniques used in many applications of nanofabrication.

    We are very pleased to present the research projects of two PhD students from TU/e who have used Oxford Instruments’ FlexAL ALD system featuring a remote inductively coupled plasma source, enabling high-quality deposition. Using advanced plasma ALD technology, Karsten Arts has achieved conformal deposition on high aspect ratio features and Marc Merkx has achieved highly selective growth of Titanium Nitride (TiN).


    Testimonial

    "One of the greatest advantages of FlexAL system is the plasma capabilities."

    Marc J. M. Merkx - Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology


    グローバルな、お客様サポート

    オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟な信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。

    • 遠隔診断ソフトウェアにより、迅速で簡便な欠陥診断と問題解決を実現します。
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