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PlasmaPro 100 ALE 原子層エッチングシステム

PlasmaPro 100 ALE 原子層エッチングシステムにより、次世代半導体デバイスのエッチングを正確にコントロールすることが可能になります。GaN HEMTアプリケーションのリセスエッチングやナノスケールのレイヤーエッチングなどのプロセス用に特別に設計されており、このシステムの一層毎またはサイクリックエッチングプロセスにより、低ダメージで平滑な表面が実現します。

  • 一層毎またはサイクリックエッチングプロセス - ALD に相当するエッチング

  • 低ダメージ

  • 平滑なエッチング表面

  • 優れたエッチング深さ制御

  • ナノスケールのレイヤーエッチングに最適(2Dマテリアルなど)

  • 幅広いプロセス・アプリケーションに対応


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次世代半導体デバイスの実現に向け、薄膜化が進む中、より精密なプロセス制御による薄膜の形成・加工が求められています。PlasmaPro 100 ALEは、当社のCobra ICPプラットフォームに原子層エッチング用の特別なハードウェアを追加することにより、これを実現しました。

  • チャンバー内の均一な高伝導経路で反応種を基板に供給 - 低圧を維持したまま高ガス流を利用可能
  • 高さ可変電極 - プラズマの3次元的な特性を活かし、厚さ10mmまでの基板を最適な高さで保持
  • 広温度範囲電極(-150℃~+400℃)を液体窒素や液循環式冷却器で冷却、または抵抗加熱器で加熱 - オプションのブローアウト・液交換ユニットでモード切り替えを自動化可能
  • 再循環型チラーユニットによる流体制御電極 - 優れた基板温度制御を実現
  • 最適なガス供給が可能なRFシャワーヘッド - LF/RF スイッチングにより均一なプラズマ処理を実現し、膜応力を精密に制御
  • 65 mm、180 mm、300 mm のICPプラズマ源 - 200 mmウェハまでプロセスの均一性を実現
  • 高いポンプ能力 - 広いプロセス圧力ウィンドウを提供
  • He 裏面冷却によるウェハクランプ - ウェハの最適な温度管理
  • パワーエレクトロニクスおよびRFデバイス用の低ダメージGaN HEMTリセスエッチング
  • 2D マテリアルのパターニング / シニング
  • SiO2や Si、SiN のナノ構造体
  • III-V 族半導体
  • 固体レーザー InP エッチング
  • VCSEL GaAs/AlGaAs エッチング
  • 高輝度 LED 製造用ハードマスクデポジションおよびエッチング
  • SiO2 や石英のエッチング
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PlasmaPro 100 ALE with Etchpoint

窒化ガリウム (GaN) は、パワーエレクトロニクスおよびRFアプリケーションにおいて、高い絶縁破壊強度、高速スイッチング、および高い熱伝導性を実現します。信頼性の高いGaN HEMTデバイスの量産をサポートするため、オックスフォード・インストゥルメンツはLayTec社と共同で、GaN HEMTデバイス構造を確実に製造するための新しいエッチング深さモニタリングソリューションを開発し、最適化しました。

PlasmaPro 100 ALE with Etchpoint®システムは、p-GaN HEMTやリセスゲートMISHEMTなどのデバイスに対して、比類のない精度のターゲットエッチング深さで、表面平滑化とともに低ダメージエッチングが可能になります。Etchpoint は、PlasmaPro 100 ALE システムのハードウェアとソフトウェアの両方に完全に統合され、GaN や AlGaN のエッチングを比類のない精度で実現します。

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グローバルな、お客様サポート

オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟な信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。

  • 遠隔診断ソフトウェアにより、迅速で簡便な欠陥診断と問題解決を実現します。
  • ご予算と状況に合わせた、サポート契約も用意しております。
  • 迅速な対応を実現するため、戦略拠点にグローバル予備品を揃えています。
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NEW: PTIQ ソフトウェア

PTIQ は、PlasmaPro および Ionfab プロセスシステム用の最新のインテリジェントソフトウェアソリューションです。

  • 卓越したレベルの応答性の高いシステム制御
  • システム、プロセスのパフォーマンスを最適化
  • お客様のご要望に合わせた様々なレベルのソフトウェア
  • 直感的なレイアウトとデザインに一新
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アップグレード・アクセサリー

ガスポッド - 追加のガスラインを組み込み、柔軟性を高めることが可能

Logviewer ソフトウェア - データログのソフトウェアであり、リアルタイムでグラフ化するとともに、処理後の解析も可能

光学エンドポイント検出器 - 最適なプロセス実績を達成するために重要なツール

ソフトポンプ - 真空チェンバーのポンプ速度を低減することが可能

ターボ分子真空ポンプ - 優れた排気速度と、高いスループットを提供

X20 コントロールシステム - システムのインテリジェンスを高め、将来の互換性が確保できる、柔軟で信頼性の高いツール

Advanced Energy社製Paramountジェネレータ - 信頼性を高め、プラズマの安定性を向上

自動圧力制御 - 非常に高速で正確な圧力制御が可能

デュアルCMゲージ・スイッチング - 2つのレンジの異なる容量型圧力計を活用し、単一の圧力バルブの制御が可能

液体窒素自動切り替えユニット - 液体窒素(LN2)とチラー冷媒の間で、テーブル冷媒を自動的に切り替えることが可能

TEOS 液体レベルセンサー - TEOS容器に適合した、超音波レベルセンサー

広温度範囲電極 - 設計を著しく改善し、プロセス性能を向上

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