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PlasmaPro 100 ALE

次世代の半導体デバイスを実現するために、薄膜がより薄くなるにつれて、このような薄膜層を生成し制御する、より高精度なプロセス制御技術が必要になっています。PlasmaPro 100 ALEは、下記のような特別なハードウェアにより、これを可能にしています:

  • ガス注入の高精度制御
  • 低RF出力供給による、優れた再現性
  • 高速PLCによる、高速スイッチング

これらの要素が統合されて、原子スケールの高精度エッチングが可能になっています。


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このツールは、多くの実績を持ち、90%以上の稼働率および、ウェハー装入時の迅速な立ち上がりが確実なプロセスを実現します。PlasmaPro 100シリーズは、MEMSやセンサー、光電子工学、個別素子、ナノ技術を含む、多くの市場分野に適用でき、それ以外にも対応できます。研究開発に活用できる柔軟性を持つとともに、製造ニーズにも対応できる構造も備えています。

PlasmaPro 100 ALE には次の特長があります。

  • 優れたエッチング深さ制御
  • 滑らかなエッチング表面
  • 低損傷プロセス
  • デジタル/サイクル・エッチングプロセス-ALDと同等のエッチング
  • 高選択性
  • 最大200mmのウェハーの処理が可能
  • 高アスペクト比(HAR)エッチングプロセス
  • ナノスケール層のエッチング除去に理想的
  • III-V etch processes
  • Solid State Lasers InP etch
  • VCSEL GaAs/AlGaAs etch
  • RF device low damage GaN etch
  • Silicon Bosch and cryo-etch processes
  • Diamond Like Carbon (DLC) deposition
  • SiO2 and quartz etch
  • Failure analysis dry etch de-processing using the specially-configured PlasmaPro FA tools ranging from packaged chip and die etch through to full 200mm wafer etch
  • High quality PECVD of silicon nitride and silicon dioxide for photonics, dielectric layers, passivation and many other uses
  • Hard mask deposition and etch for high brightness LED production
ALE のカタログは、こちら

グローバルな、お客様サポート

オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟な信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。

  • 遠隔診断ソフトウェアにより、迅速で簡便な欠陥診断と問題解決を実現します。
  • ご予算と状況に合わせた、サポート契約も用意しております。
  • 迅速な対応を実現するため、戦略拠点にグローバル予備品を揃えています。
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アップグレード・アクセサリー

ガスポッド - 追加のガスラインを組み込み、柔軟性を高めることが可能

Logviewer ソフトウェア - データログのソフトウェアであり、リアルタイムでグラフ化するとともに、処理後の解析も可能

光学エンドポイント検出器 - 最適なプロセス実績を達成するために重要なツール

ソフトポンプ - 真空チェンバーのポンプ速度を低減することが可能

ターボ分子真空ポンプ - 優れた排気速度と、高いスループットを提供

X20 コントロールシステム - システムのインテリジェンスを高め、将来の互換性が確保できる、柔軟で信頼性の高いツール

Paramount先進エネルギー発生器 - 信頼性を高め、プラズマの安定性を増大

自動圧力制御 - 非常に高速で正確な圧力制御が可能

デュアルCMゲージ・スイッチング - 2つのレンジの異なる容量型圧力計を活用し、単一の圧力バルブの制御が可能

液体窒素自動切り替えユニット - 液体窒素(LN2)とチラー冷媒の間で、テーブル冷媒を自動的に切り替えることが可能

TEOS 液体レベルセンサー - TEOS容器に適合した、超音波レベルセンサー

広温度範囲電極 - 設計を著しく改善し、プロセス性能を向上

その他アプリケーション

量子情報処理発光デバイスの製造と評価

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