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プラズマ励起リアクティブイオンエッチング（RIE-PE）は、単一ツールの中で、2つのシンプルなプラズマ発生技術を組み合わせています。
RIEでは、サンプルがセットされる定盤に加速電圧が負荷されプラズマからイオンが引き出されるため、方向性が強く高速のエッチングが実現します。PEでは加速電圧は負荷されないため、より等方的なエッチングが生じます。
| PlasmaPro 80 | |
| 電極サイズ | 240mm |
| ローディング | オープン |
| 基板 | カタログ参照 |
| MFC制御ガスライン | 4ライン、8ラインまたは12ラインのガスボックスが利用可能 |
| ウェハテーブル温度範囲 | -150ºC ～ 400ºC |
| He 裏面冷却オプション | Yes |
| ICP オプション | Yes |
| 集束プラズマ | Yes |
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