PlasmaPro 100 RIE

The PlasmaPro 100 RIEモジュールは、広範囲のプロセスにおける、異方性ドライエッチングを実現します。

RIE of InP waveguide

70nm Fused Silica lines 933nm deep Cr mask

Dielectric metal etch

Delivers reactive species to the substrate, with a uniform high conductance path through the chamber
Allows a high gas flow to be used while maintaining low pressure
Wide temperature range electrode (-150°C to +400°C)
which can be cooled by liquid nitrogen, a fluid re-circulating chiller or resistively heated - An optional blow out and fluid exchange unit can automate the process of switching modes
A fluid controlled electrode fed by a re-circulating chiller unit
Excellent substrate temperature control
High pumping capacity - gives wide process pressure window
Wafer clamping with He backside cooling
Optimum wafer temperature control

オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟、かつ信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。

PTIQ is the latest intelligent software solution for PlasmaPro and Ionfab processing equipment.

アップグレード・アクセサリー

ガスポッド - 追加のガスラインを組み込み、柔軟性を高めることが可能

Logviewer ソフトウェア - データログのソフトウェアであり、リアルタイムでグラフ化するとともに、処理後の解析も可能

光学エンドポイント検出器 - 最適なプロセス実績を達成するために重要なツール

ソフトポンプ - 真空チェンバーのポンプ速度を低減することが可能

ターボ分子真空ポンプ - 優れた排気速度と、高いスループットを提供

X20 コントロールシステム - システムのインテリジェンスを高め、将来の互換性が確保できる、柔軟で信頼性の高いツール

Advanced Energy社製Paramountジェネレータ - 信頼性を高め、プラズマの安定性を向上

自動圧力制御 - 非常に高速で正確な圧力制御が可能

デュアルCMゲージ・スイッチング - 2つのレンジの異なる容量型圧力計を活用し、単一の圧力バルブの制御が可能

液体窒素自動切り替えユニット - 液体窒素（LN2）とチラー冷媒の間で、テーブル冷媒を自動的に切り替えることが可能

TEOS 液体レベルセンサー - TEOS容器に適合した、超音波レベルセンサー

広温度範囲電極 - 設計を著しく改善し、プロセス性能を向上