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The PlasmaPro 100 RIEモジュールは、広範囲のプロセスにおける、異方性ドライエッチングを実現します。
最大200mmサイズまでの、全てのウェハーに適合可能
ウェハーサイズの迅速な交換が可能
所有コストが低く、保守が簡単
優れた均質性、高スループットおよび高精度のプロセスが可能
その場チェンバー洗浄および終端決定が可能
広い電極温度範囲、-150℃～400℃
RIE of InP waveguide
70nm Fused Silica lines 933nm deep Cr mask
Dielectric metal etch
オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟、かつ信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。
ガスポッド - 追加のガスラインを組み込み、柔軟性を高めることが可能
Logviewer ソフトウェア - データログのソフトウェアであり、リアルタイムでグラフ化するとともに、処理後の解析も可能
光学エンドポイント検出器 - 最適なプロセス実績を達成するために重要なツール
ソフトポンプ - 真空チェンバーのポンプ速度を低減することが可能
ターボ分子真空ポンプ - 優れた排気速度と、高いスループットを提供
X20 コントロールシステム - システムのインテリジェンスを高め、将来の互換性が確保できる、柔軟で信頼性の高いツール
Paramount先進エネルギー発生器 - 信頼性を高め、プラズマの安定性を増大
自動圧力制御 - 非常に高速で正確な圧力制御が可能
デュアルCMゲージ・スイッチング - 2つのレンジの異なる容量型圧力計を活用し、単一の圧力バルブの制御が可能
液体窒素自動切り替えユニット - 液体窒素（LN2）とチラー冷媒の間で、テーブル冷媒を自動的に切り替えることが可能
TEOS 液体レベルセンサー - TEOS容器に適合した、超音波レベルセンサー
広温度範囲電極 - 設計を著しく改善し、プロセス性能を向上
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