当社のGaN向けALEおよびALDシステムの受注が増加
オックスフォード・インストゥルメンツ、日本の主要なパワーエレクトロニクスおよびRFデバイスファウンドリー数社からGaN向けALEおよびALDシステムを受注
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PlasmaPro 100 RIE モジュールにより、広範なプロセスに対応した等方性・異方性ドライエッチングが実現します。研究および製造のお客様に適しており、ロードロックおよびカセット方式オプションにより、プロセスの再現性を向上させる制御環境を提供します。
200 mm までの、全てのウェハに対応
プロセスコントロールに優れた枚葉式またはバッチ式プロセス
ガスとプラズマパワーを高精度に制御
サイズが異なるウェハの迅速な交換が可能
所有コストの低さと保守性を両立
優れた均質性、高スループットおよび高精度のプロセスが可能
その場チャンバー洗浄および終端決定が可能
広い電極温度範囲、-150℃～400℃
RIE (リアクティブイオンエッチング) は、主に物理的なエッチングプロセスです。ウェハの真上に高濃度のプラズマを発生させ、イオンを表面に向けて加速させることで、強力で高度な異方性エッチングを実現します。チャンバーの上部のガスは、ウェハレベルの RF 源ソースにより低圧で反応性プラズマに変化します。イオンはサンプルと相互作用してエッチングの副産物を形成、または未反応のまま残ります。すべての未反応種と副産物は、真空ポンプによってチャンバーから除去され、高いエッチングレートを維持するために高濃度の活性プラズマが維持されます。
PlasmaPro 100 RIE は、チャンバー内の均一な高伝導経路で反応種を基板に供給するため、低圧を維持したまま高ガス流を使用することが可能です。
RIE of InP waveguide
70nm Fused Silica lines 933nm deep Cr mask
Dielectric metal etch
クラスターロードロック オプション
*MX600ss を使用
動作条件
ロードロックの高度なオプション
オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟、かつ信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。
PTIQ は、PlasmaPro および Ionfab プロセスシステム用の最新のインテリジェントソフトウェアソリューションです。
ガスポッド - 追加のガスラインを組み込み、柔軟性を高めることが可能
Logviewer ソフトウェア - データログのソフトウェアであり、リアルタイムでグラフ化するとともに、処理後の解析も可能
光学エンドポイント検出器 - 最適なプロセス実績を達成するために重要なツール
ソフトポンプ - 真空チェンバーのポンプ速度を低減することが可能
ターボ分子真空ポンプ - 優れた排気速度と、高いスループットを提供
X20 コントロールシステム - システムのインテリジェンスを高め、将来の互換性が確保できる、柔軟で信頼性の高いツール
Advanced Energy社製Paramountジェネレータ - 信頼性を高め、プラズマの安定性を向上
自動圧力制御 - 非常に高速で正確な圧力制御が可能
デュアルCMゲージ・スイッチング - 2つのレンジの異なる容量型圧力計を活用し、単一の圧力バルブの制御が可能
液体窒素自動切り替えユニット - 液体窒素（LN2）とチラー冷媒の間で、テーブル冷媒を自動的に切り替えることが可能
TEOS 液体レベルセンサー - TEOS容器に適合した、超音波レベルセンサー
広温度範囲電極 - 設計を著しく改善し、プロセス性能を向上
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