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PlasmaPro 100 RIE

The PlasmaPro 100 RIEモジュールは、広範囲のプロセスにおける、異方性ドライエッチングを実現します。

  • 最大200mmサイズまでの、全てのウェハーに適合可能

  • ウェハーサイズの迅速な交換が可能

  • 所有コストが低く、保守が簡単

  • 優れた均質性、高スループットおよび高精度のプロセスが可能

  • その場チェンバー洗浄および終端決定が可能

  • 広い電極温度範囲、-150℃~400℃


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RIE of InP waveguide

RIE of InP waveguide

70nm Fused Silica lines 933nm deep Cr mask

70nm Fused Silica lines 933nm deep Cr mask

Dielectric metal etch

Dielectric metal etch

  • Delivers reactive species to the substrate, with a uniform high conductance path through the chamber
    Allows a high gas flow to be used while maintaining low pressure
  • Wide temperature range electrode (-150°C to +400°C)
    which can be cooled by liquid nitrogen, a fluid re-circulating chiller or resistively heated - An optional blow out and fluid exchange unit can automate the process of switching modes
  • A fluid controlled electrode fed by a re-circulating chiller unit
    Excellent substrate temperature control
  • High pumping capacity - gives wide process pressure window
  • Wafer clamping with He backside cooling
    Optimum wafer temperature control
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グローバルな、お客様サポート

オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟、かつ信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。

  • 遠隔診断ソフトウェアにより、迅速で簡便な欠陥診断と問題解決を実現します。
  • ご予算と状況に合わせた、サポート契約も用意しております。
  • 迅速な対応を実現するため、戦略拠点にグローバル予備品を揃えています。
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アップグレード・アクセサリー

ガスポッド - 追加のガスラインを組み込み、柔軟性を高めることが可能

Logviewer ソフトウェア - データログのソフトウェアであり、リアルタイムでグラフ化するとともに、処理後の解析も可能

光学エンドポイント検出器 - 最適なプロセス実績を達成するために重要なツール

ソフトポンプ - 真空チェンバーのポンプ速度を低減することが可能

ターボ分子真空ポンプ - 優れた排気速度と、高いスループットを提供

X20 コントロールシステム - システムのインテリジェンスを高め、将来の互換性が確保できる、柔軟で信頼性の高いツール

Paramount先進エネルギー発生器 - 信頼性を高め、プラズマの安定性を増大

自動圧力制御 - 非常に高速で正確な圧力制御が可能

デュアルCMゲージ・スイッチング - 2つのレンジの異なる容量型圧力計を活用し、単一の圧力バルブの制御が可能

液体窒素自動切り替えユニット - 液体窒素(LN2)とチラー冷媒の間で、テーブル冷媒を自動的に切り替えることが可能

TEOS 液体レベルセンサー - TEOS容器に適合した、超音波レベルセンサー

広温度範囲電極 - 設計を著しく改善し、プロセス性能を向上

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その他アプリケーション

量子情報処理発光デバイスの製造と評価

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