ICP CVD Systems

このICPCVDプロセスモジュールは、低成膜温度で高品質の薄膜を製造するように設計されており、低損傷の優れた薄膜特性を達成する、高密度のリモートプラズマによって実現します。

PlasmaPro 80は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易い大気装入方式で実現します。設置や使用が簡単ですが、プロセスの品質はそのままです。大気装入設計は、迅速なウェハー装入と抽出を可能にし、研究やプロトタイプ、少量生産に理想的です。最適化された電極冷却および優れた基板温度の制御により、高性能プロセスを実現します。