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PlasmaPro 100 Estrelas プラットフォームは、ディープシリコンエッチング（DSiE）用途に対して、全体的な柔軟性を実現するように設計されており、Micro Electro Mechanical Systems（マイクロ電気機械システム、MEMS）、そして先進パッケージとナノ技術市場全般といった、多様な必要プロセス条件に対応できます。PlasmaPro 100 Estrelasは、研究と製造の両分野を念頭に開発されており、究極のプロセス柔軟性を実現しています。
滑らかな側壁を可能にするプロセス
高キャビティのエッチング
高アスペクト比が可能なプロセス
傾斜ビアエッチング
広範な応用分野
機械式または静電式クランプ
加熱ライナー
優れた再現性
洗浄間の平均時間（MTBC）の増大
PlasmaPro 100 Estrelasは、滑らかな側壁や高キャビティ、高アスペクト比、傾斜ビアエッチングを実現し、ハードウェアチェンバーを交換することなく、MEMSや先進パッケージとナノ技術などの多様な応用を実現します。
Nano and micro structures can be realised as the hardware has been designed with the ability to run Bosch™ and Cryo etch technologies in the same chamber.
Compatible with 50mm to 200mm substrates - ensures you have the ability to develop devices that can be taken to production using the same chamber hardware
Auto match - Process flexibility
Higher flow MFCs and associated generators - High radical densities
Reduced chamber volume and high throughput pumping - Ensures high gas conductance
Fast-acting close coupled MFCs - Fast control (originally developed for ALD)
オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟な信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。
PTIQ is the latest intelligent software solution for PlasmaPro and Ionfab processing equipment.
ガスポッド - 追加のガスラインを組み込み、柔軟性を高めることが可能
Logviewer ソフトウェア - データログのソフトウェアであり、リアルタイムでグラフ化するとともに、処理後の解析も可能
光学エンドポイント検出器 - 最適なプロセス実績を達成するために重要なツール
ソフトポンプ - 真空チェンバーのポンプ速度を低減することが可能
ターボ分子真空ポンプ - 優れた排気速度と、高いスループットを提供
X20 コントロールシステム - システムのインテリジェンスを高め、将来の互換性が確保できる、柔軟で信頼性の高いツール
Advanced Energy社製Paramountジェネレータ - 信頼性を高め、プラズマの安定性を向上
自動圧力制御 - 非常に高速で正確な圧力制御が可能
デュアルCMゲージ・スイッチング - 2つのレンジの異なる容量型圧力計を活用し、単一の圧力バルブの制御が可能
液体窒素自動切り替えユニット - 液体窒素（LN2）とチラー冷媒の間で、テーブル冷媒を自動的に切り替えることが可能
TEOS 液体レベルセンサー - TEOS容器に適合した、超音波レベルセンサー
広温度範囲電極 - 設計を著しく改善し、プロセス性能を向上
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