ロケーション:
ANAクラウンプラザホテル金沢
事業部:
Asylum Research, Plasma Technology, WITec | Raman
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PlasmaPro 800は、直径460 mmのテーブルを装備し、300 mmのフルサイズまたは43 x 50 mm（2”）の大きなバッチに対応します。フル製造ソリューションを実現するとともに、市場をリードする実績のある製品です。
PlasmaPro 800は、化合物半導体、オプトエレクトロニクス、フォトニクスのアプリケーションにおいて、最大限のプロセス柔軟性を提供します：
大型電極 - 低い所有コスト
エッチング エンドポイント検出 - 信頼性・サービス性
レーザー干渉法および／または発光分光法によるエンドポイント検出 - エッチング制御を強化するために装着することも可能
4-, 8- or 12-ライン ガスポッド オプション - プロセスやプロセスガスの柔軟性があり、通常のプロセスツールから離れたサービスエリアに設置することが可能
クローズカップル ターボポンプ - 高いポンピングスピードと優れたベース圧
データロガー - チャンバーやプロセス条件のトレーサビリティや履歴の取得
液冷式または電熱式電極 - 優れた電極温度制御と安定性
オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟、かつ信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。
PTIQ は、PlasmaPro および Ionfab プロセスシステム用の最新のインテリジェントソフトウェアソリューションです。
PlasmaPro 800 PECVD
PlasmaPro 800 RIE
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