マイクロLED開発に向けて、プラズマ・エッチング・ソリューションをITRIに提供
マイクロLEDのR&Dプログラム用に、エッチングおよびデポジションの両方を含む複合PlasmaPro 100システムを採用
PlasmaPro 800は、直径460 mmのテーブルを備えていますので、300 mmのフルサイズまたは43 x 50 mm(2”)の大きなバッチに対応する能力があり、フル製造ソリューションを実現するとともに、市場をリードする実績のある製品です。
Allowing maximum process flexibility for compound semiconductor, optoelectronics, and photonics applications, the PlasmaPro 800 provides:
Large electrode - Low Cost of Ownership
Etch end point detection - Reliability and serviceability
Endpoint detection by laser interferometry and/or optical emission spectroscopy - Can be fitted to enhance etch control
Options of a 4-, 8- or 12-line gas pod - Provides flexibility in processes and process gases, and may be remotely sited in the service area, away from the main process tool
Close-coupled turbo pump - High pumping speed and excellent base pressure
Datalogging - Traceability and history of chamber and process conditions
Fluid-cooled and/or electrically-heated electrodes - Excellent electrode temperature control and stability
オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟、かつ信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。
PlasmaPro 800 PECVD
PlasmaPro 800 RIE/PE
PlasmaPro 800 RIE