Growth & Characterisation of 2D materials
オックスフォード・インストゥルメンツー事業部ページ
CVD/PECVDは、1D/2Dのナノ材料とヘテロ構造の成膜に適したツールです。PlasmaPro 100 Nano (以前の名称は Nanofab) は、その場触媒活性化と厳格なプロセス制御により、ナノ材料の高い成膜特性を実現します。
最高1200℃までの柔軟な温度制御による、優れた均質性
700℃、800℃、1200℃のテーブルのオプション
最大200mmまでのサンプルサイズ
真空予備室－迅速なサンプル交換
シャワーヘッドの冷却壁設計による、均一な原料プリカーサー供給
MoS2、MoSe2、そして他のTMDCの成膜に向けた、液体/固体原料供給システムのオプション
オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟、かつ信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。
ガスポッド - 追加のガスラインを組み込み、柔軟性を高めることが可能
ターボ分子真空ポンプ - 優れた排気速度と、高いスループットを提供
光学エンドポイント検出器 - 最適なプロセス実績を達成するために重要なツール
TEOS 液体レベルセンサー - TEOS容器に適合した、超音波レベルセンサー
© オックスフォード・インストゥルメンツ 2023