ロケーション:
Gメッセ群馬
事業部:
Asylum Research, Plasma Technology, WITec | Raman
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化学気相堆積 (CVD) やプラズマCVD (PECVD) は、1Dナノ材料や 2Dナノ材料の成長、ヘテロ接合の形成に適したツールです。PlasmaPro 100 Nano (以前の名称は Nanofab) は、1,200°Cまでの温度制御、in-situ 触媒活性化、厳格なプロセス制御によりナノ材料の高い成膜特性を実現します。
最高1200℃までの柔軟な温度制御による、優れた均質性
オプションの 700℃、800℃、1200℃のテーブルヒーター
サンプルサイズは最大200mm
真空ロードロック－迅速なサンプル交換
シャワーヘッドを使用した冷却壁デザインにより、均一な原料プリカーサー供給が実現
MoS2、MoSe2、そして他のTMDC (遷移金属ダイカルコゲナイド) のデポジション向け、オプションの液体/固体原料供給システム
オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟な信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。
PTIQ は、PlasmaPro および Ionfab プロセスシステム用の最新のインテリジェントソフトウェアソリューションです。
ガスポッド - 追加のガスラインを組み込み、柔軟性を高めることが可能
ターボ分子真空ポンプ - 優れた排気速度と、高いスループットを提供
光学エンドポイント検出器 - 最適なプロセス実績を達成するために重要なツール
TEOS 液体レベルセンサー - TEOS容器に適合した、超音波レベルセンサー
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