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PlasmaPro 100 Nano CVD

化学気相堆積 (CVD) やプラズマCVD (PECVD) は、1Dナノ材料や 2Dナノ材料の成長、ヘテロ接合の形成に適したツールです。PlasmaPro 100 Nano (以前の名称は Nanofab) は、1,200°Cまでの温度制御、in-situ 触媒活性化、厳格なプロセス制御によりナノ材料の高い成膜特性を実現します。

  • 最高1200℃までの柔軟な温度制御による、優れた均質性

  • オプションの 700℃、800℃、1200℃のテーブルヒーター

  • サンプルサイズは最大200mm

  • 真空ロードロック-迅速なサンプル交換

  • シャワーヘッドを使用した冷却壁デザインにより、均一な原料プリカーサー供給が実現

  • MoS2、MoSe2、そして他のTMDC (遷移金属ダイカルコゲナイド) のデポジション向け、オプションの液体/固体原料供給システム


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  • フレキシビリティの高い温度制御 (最高1200°C) による優れた薄膜均一性
  • オプションの 700℃、800℃、1200℃のテーブルヒーター
  • サンプルサイズは最大200mm
  • 真空ロードロック-迅速なサンプル交換
  • シャワーヘッドを使用した冷却壁デザインにより、均一な原料プリカーサー供給が実現
  • MoS2、MoSe2、そして他のTMDC (遷移金属ダイカルコゲナイド) のデポジション向け、オプションの液体/固体原料供給システム
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グローバルな、お客様サポート

オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟な信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。

  • 遠隔診断ソフトウェアにより、迅速で簡便な欠陥診断と問題解決を実現します。
  • ご予算と状況に合わせた、サポート契約も用意しております。
  • 迅速な対応を実現するため、戦略拠点にグローバル予備品を揃えています。
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アップグレード・アクセサリー

ガスポッド - 追加のガスラインを組み込み、柔軟性を高めることが可能

ターボ分子真空ポンプ - 優れた排気速度と、高いスループットを提供

光学エンドポイント検出器 - 最適なプロセス実績を達成するために重要なツール

TEOS 液体レベルセンサー - TEOS容器に適合した、超音波レベルセンサー

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