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PlasmaPro 80 ICP RIEは、コンパクトで設置面積が小さく、便利なオープンローディングで多目的なICPエッチングソリューションを提供するシステムです。簡単な設置で使いやすく、さらにプロセス品質に妥協はありません。オープンロード設計により、ウェハの迅速なロードとアンロードが可能で、研究、プロトタイプ製作、少量生産に最適です。最適化された電極の冷却機能と優れた基板温度制御により、高性能なプロセスを実現します。
オープンロードデザインにより、ウェハの迅速なローディングとアンローディングが可能
優れたエッチング制御および最適なエッチング速度設定
優れたウェハ温度の均質性を実現
最大 200mm のウェハのプロセスが可能
所有コストが低い
安全ガイドライン Semi S2/S8 準拠
最表面の絶縁層を除去し、4つの金属層を露出
最表面の絶縁層を除去し、4つの金属層を露出
ICP65による、低ダメージ故障解析エッチング
オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟、かつ信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。
PTIQ は、PlasmaPro および Ionfab プロセスシステム用の最新のインテリジェントソフトウェアソリューションです。
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