プラズマテクノロジーのソリューション

Society5.0 や情報安全保障を実現する上で、これまでよりも高度な半導体デバイスの製造が世界中で求められています。また、従来のシリコンデバイスをはじめ、高いクオリティの GaN や SiC などのパワー半導体、量子コンピュータ用デバイス、対話型AIデバイスの製造により社会の大きな変革が期待されています。そして、使用されていないということが考えられないほど数多くの半導体デバイスがあらゆるモノに利用されていますが、国際的な社会情勢の変化から安定したサプライチェーンの構築が見直され、世界的に精密かつ迅速・安定した半導体デバイス製造装置が求められています。

そのような状況において、当社のテクノロジーが半導体を含めた様々な分野のデバイス製造のための薄膜加工装置として複合システム化されています。当社プラズマテクノロジーが提供する独自のソリューションにより、原子レベルでの極めて精緻なデバイス製造や微細加工が可能になります。ALD (原子層堆積) や ALE (原子層エッチング) 、プラズマを利用したデポジションやエッチングなどは、現在、最先端のデバイス製造に重要な技術となっています。お客様の課題解決のため、ぜひ当社のスペシャリストにご連絡ください。