プラズマ・プロセスでよりよい成果を
デバイス製造に向けたソリューションにより
当社の今年を飾るブログ、報告書、ウェビナーをご覧ください。
これらのソリューションは、プラズマとイオンビーム、原子層レベルのデポジションとエッチングにおけるコア技術に基づいています。当社の製品は、高スループットの生産プロセス用の カセット式クラスターのプラットフォームから、研究開発用のコンパクトなスタンドアローンシステムまで対応しております。
マイクロLEDのR&Dプログラム用に、エッチングおよびデポジションの両方を含む複合PlasmaPro 100システムを採用
日本のパワーデバイスとRFデバイス市場に向けて、原子スケール処理ソリューションを共同で提供
アイントホーフェンで光チップに関する欧州パートナー会議
Have you thought about the challenges of preparing graphene devices? Do you know the key technologies…
We have some very brave souls at Oxford Instruments! 🛩 👏 Congratulations to our #PlasmaTechnology colleague…
Our Plasma Technology colleagues in China recently held a team-building…
Yesterday, we celebrated 60 years of innovation at #PlasmaTechnology in the…
We have some very brave souls at Oxford Instruments! 🛩 👏 Congratulations to our #PlasmaTechnology colleague Laura Mugford who successfully jumped from a plane and raised a fantastic £615 for the charity Towards Tomorrow Together! #skydive #charity #fundraiser SkydiveBuzz - Dunkeswell
Oxford Instruments Plasma Technology provides a range of high performance, flexible tools to semiconductor processing customers involved in research and development, and production.
オックスフォード・インストゥルメンツツの一部
