当社のGaN向けALEおよびALDシステムの受注が増加
オックスフォード・インストゥルメンツ、日本の主要なパワーエレクトロニクスおよびRFデバイスファウンドリー数社からGaN向けALEおよびALDシステムを受注
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PlasmaPro 100 PECVD システムは、屈折率、応力、電気特性、ウェットケミカルエッチング速度などの膜特性を制御し、優れた均一性を持つ高品質な薄膜製造用の特別に設計されたシステムです。当社の最先端のプラズマ CVD システムは、絶縁膜のパッシベーション（例：SiO2、SixNy）、炭化ケイ素、アモルファスシリコン、ハードマスク蒸着、反射防止コーティングに適しています。
高品質、高スループット、優れた均質性の成膜が可能
屈折率や応力の高い制御
高濃度プラズマと低圧におけるデポジション
最大 200 mm までのウェハに対応
異なるサイズのウェハの迅速な交換が可能
低所有コストと保守性を両立
抵抗加熱電極により、最大400℃または1200℃まで可能
その場チェンバー洗浄および終端決定が可能
PlasmaPro 100 PECVD は、電極の温度均一性と電極内のシャワーヘッドデザインにより、優れたコンフォーマルデポジションとパーティクルの発生低減が実現し、RFエネルギーによるプラズマを発生させることができます。プラズマの高エネルギー反応種により、低圧を維持しながら、目的の厚さの基板を得るための高いデポジションレートを実現します。また、上部電極に印加する 13.56 MHz と 100 kHz の 2 つの周波数のパワーにより、応力制御と薄膜の緻密化が可能になります。
最大4つのプロセスモジュールのクラスタリング
抵抗加熱式電極：400℃または1200℃まで
プリカーサーの供給オプション：
オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟、かつ信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。
PTIQ は、PlasmaPro および Ionfab プロセスシステム用の最新のインテリジェントソフトウェアソリューションです。
ガスポッド - 追加のガスラインを組み込み、柔軟性を高めることが可能
Logviewer ソフトウェア - データログのソフトウェアであり、リアルタイムでグラフ化するとともに、処理後の解析も可能
光学エンドポイント検出器 - 最適なプロセス実績を達成するために重要なツール
ソフトポンプ - 真空チェンバーのポンプ速度を低減することが可能
ターボ分子真空ポンプ - 優れた排気速度と、高いスループットを提供
X20 コントロールシステム - システムのインテリジェンスを高め、将来の互換性が確保できる、柔軟で信頼性の高いツール
Advanced Energy社製Paramountジェネレータ - 信頼性を高め、プラズマの安定性を向上
自動圧力制御 - 非常に高速で正確な圧力制御が可能
デュアルCMゲージ・スイッチング - 2つのレンジの異なる容量型圧力計を活用し、単一の圧力バルブの制御が可能
液体窒素自動切り替えユニット - 液体窒素（LN2）とチラー冷媒の間で、テーブル冷媒を自動的に切り替えることが可能
TEOS 液体レベルセンサー - TEOS容器に適合した、超音波レベルセンサー
広温度範囲電極 - 設計を著しく改善し、プロセス性能を向上
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