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PlasmaPro 100 PECVD

PECVDプロセスモジュールは、優れた均質性と高速度の成膜を実現するように独自に設計されており、屈折率や応力、電気的特性、湿式化学エッチング速度のような、薄膜特性を制御できるようになっています。

  • 高品質、高スループット、優れた均質性の成膜が可能

  • 広い電極温度範囲

  • 最大200mmサイズまでの、全てのウェハーに適合可能

  • ウェハーサイズの迅速な交換が可能

  • 所有コストが低く、保守が簡単

  • 抵抗加熱電極により、最大400℃または1200℃まで可能

  • その場チェンバー洗浄および終端決定が可能


お問い合わせ

  • フォトニクスや誘電体層、パッシベーション、そして他の多くの用途について、窒化ケイ素酸化ケイ素の高品質PECVDが可能
  • ハードマスクのデポジションおよび高輝度LED製造のエッチングに適用可能

Delivers reactive species to the substrate, with a uniform high conductance path through the chamber
Allows a high gas flow to be used while maintaining low pressure

Variable height electrode
Utilises the 3D characteristics of the plasma and accommodate substrates up to 10mm thick at optimum height

Wide temperature range electrode (-150°C to +400°C)
Can be cooled by liquid nitrogen, a fluid re-circulating chiller or resistively heated

A fluid controlled electrode fed by a re-circulating chiller unit Excellent substrate temperature control

RF powered showerhead with optimised gas delivery
Provides uniform plasma processing with LF/RF switching allowing precise control of film stress

ICP source sizes of 65mm, 180mm, 300mm
Delivers process uniformity up to 200mm wafers

High pumping capacity
Gives wide process pressure window

Wafer clamping with He backside cooling
Optimum wafer temperature control

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グローバルな、お客様サポート

オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟、かつ信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。

  • 遠隔診断ソフトウェアにより、迅速で簡便な欠陥診断と問題解決を実現します。
  • ご予算と状況に合わせた、サポート契約も用意しております。
  • 迅速な対応を実現するため、戦略拠点にグローバル予備品を揃えています。
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アップグレード・アクセサリー

ガスポッド - 追加のガスラインを組み込み、柔軟性を高めることが可能

Logviewer ソフトウェア - データログのソフトウェアであり、リアルタイムでグラフ化するとともに、処理後の解析も可能

光学エンドポイント検出器 - 最適なプロセス実績を達成するために重要なツール

ソフトポンプ - 真空チェンバーのポンプ速度を低減することが可能

ターボ分子真空ポンプ - 優れた排気速度と、高いスループットを提供

X20 コントロールシステム - システムのインテリジェンスを高め、将来の互換性が確保できる、柔軟で信頼性の高いツール

Paramount先進エネルギー発生器 - 信頼性を高め、プラズマの安定性を増大

自動圧力制御 - 非常に高速で正確な圧力制御が可能

デュアルCMゲージ・スイッチング - 2つのレンジの異なる容量型圧力計を活用し、単一の圧力バルブの制御が可能

液体窒素自動切り替えユニット - 液体窒素(LN2)とチラー冷媒の間で、テーブル冷媒を自動的に切り替えることが可能

TEOS 液体レベルセンサー - TEOS容器に適合した、超音波レベルセンサー

広温度範囲電極 - 設計を著しく改善し、プロセス性能を向上

その他アプリケーション

量子情報処理発光デバイスの製造と評価

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