製品

プロダクト・グループ (何も選択されていません)

ALD

ALD

Excellent process control
Superb thin film barrier properties
Virtually pin-hole free films

ALE

ALE

High selectivity
Low damage
Excellent uniformity

DSiE

DSiE

Precision etch processes
High selectivity
High aspect ratio

IBD

IBD

Multiple wafer handling options
Multiple mode functionality
Single wafer loadlock or cluster wafer handling

IBE

IBE

Multiple wafer handling options
Multiple mode functionality
Single wafer loadlock or cluster wafer handling

ICP Etching

ICP Etching

High density
Low pressure
Wide temperature range

ICPCVD

ICPCVD

Excellent quality
Low damage films
Wide temperature range

Nanoscale Growth

Nanoscale Growth

Cold wall design with showerhead
Excellent temperature uniformity
Up to 1200^oC

PECVD

PECVD

Excellent uniformity
High rate films
Excellent control of film properties

RIE Etching

RIE Etching

Anisotropic dry etching
Fast and consistent etching
High pumping capacity

ローディング...

最新ニュース:

Oxford Instruments’ Plasma Tech. and NanoScience businesses collaborate…

Innovate UK awards the largest ever Government grant aimed at the commercialisation…

記事全文を読む >

マイクロLED開発に向けて、プラズマ・エッチング・ソリューションをITRIに提供

マイクロLEDのR&Dプログラム用に、エッチングおよびデポジションの両方を含む複合PlasmaPro 100システムを採用

記事全文を読む >

(株)アルバック（ULVAC）と原子スケール処理ソリューションを共同で提供

日本のパワーデバイスとRFデバイス市場に向けて、原子スケール処理ソリューションを共同で提供

記事全文を読む >

アイントホーフェンで光チップに関する欧州パートナー会議

アイントホーフェンで光チップに関する欧州パートナー会議

記事全文を読む >