製品

プロダクト・グループ (何も選択されていません)

ALD

ALD

Excellent process control
Superb thin film barrier properties
Virtually pin-hole free films

ALE

ALE

High selectivity
Low damage
Excellent uniformity

DSiE

DSiE

Precision etch processes
High selectivity
High aspect ratio

IBD

IBD

Multiple wafer handling options
Multiple mode functionality
Single wafer loadlock or cluster wafer handling

Ion Beam Systems

Ion Beam Systems

Multiple wafer handling options
Multiple mode functionality
Single wafer loadlock or cluster wafer handling

ICPエッチングシステム

ICPエッチングシステム

High density
Low pressure
Wide temperature range

ICPCVD

ICPCVD

Excellent quality
Low damage films
Wide temperature range

CVD Systems

CVD Systems

Cold wall design with showerhead
Excellent temperature uniformity
Up to 1200^oC

PECVD

PECVD

Excellent uniformity
High rate films
Excellent control of film properties

RIE Etching

RIE Etching

Anisotropic dry etching
Fast and consistent etching
High pumping capacity

ローディング...

最新ニュース:

予算申請用カタログ2022が完成

2022年度オックスフォード・インストゥルメンツの予算申請用カタログが完成しました。６分野別に当社の製品をご紹介しています。科学研究費などの予算申請にご利用ください。

記事全文を読む >

代表取締役人事に関するお知らせ

オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社（本社：東京都品川区）は、2022年1月4日付で合田豊治（ごうだとよはる）が代表取締役社長に就任いたしましたので、お知らせいたします。

記事全文を読む >

サー・マーティン・ウッド (Sir Martin Wood, 1927年～2021年)

オックスフォード・インストゥルメンツの創業者である、Sir Martin Wood（サー・マーティン・ウッド）が去る2021年11月23日に逝去いたしました（享年94歳）。

記事全文を読む >

Oxford Instruments Join European Graphene Flagship funded pilot line

Oxford Instruments Plasma Technology, a leading supplier of plasma processing…

記事全文を読む >