ロケーション:
東京ビッグサイト（東展示棟）
事業部:
NanoAnalysis, Asylum Research, WITec | Raman, Plasma Technology
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PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE システムでは、高密度誘導結合プラズマを使用して、高速なエッチングレートを実現します。このプロセスモジュールは、GaAs や InP レーザーオプトエレクトロニクス、SiC や GaNのパワーエレクトロニクスや RF デバイス、MEMS やセンサーなど、多くの分野で使用されている、 200 mm までのウェハサイズに対応し、優れた均一性、高スループット、高精度、低ダメージのプロセスを提供しています。
高速なエッチングレートおよび高い選択性
低ダメージエッチングおよび再現性の高いプロセス
単一ウェハ ロードロックまたは最大 5 プロセスモジュールを用いたクラスター化
温度制御を最適化する He 裏面冷却
広い電極温度範囲： -150℃ ～ 400℃
最大 200 mm までの、全てのウェハサイズに適合
異なるサイズのウェハの迅速な交換が可能
その場チェンバー洗浄および終端決定が可能
Cobra® ICP のプラズマ源は、低圧で高密度の反応種を発生させます。基板 DC バイアスは、独立した RF ジェネレーターによって駆動され、プロセス要件に応じてラジカルとイオンを独立して制御することが可能です。
オックスフォード・インストゥルメンツの PlasmaPro 100 プロセスモジュールは、200 mm のプラットフォームで、シングルウエハおよびマルチウエハバッチ機能を備えています。このプロセスモジュールにより、高スループット、高精度、優れた均一性が可能となり、クリーンで平滑な垂直プロファイルとエッチ面が実現されます。当社のシステムは、量産製造（HVM）において多くの導入実績があり、プロセスソリューションが確立されています。
ウェハサイズ： 最大 200 mm
ICP プラズマ源： 65 mm または 300 mm
温度範囲： -150 ～ 400 °C
クラスター化： ALD、PECVD、イオンビームエッチング、イオンビームデポジションなどの技術を含む最大 5 つのモジュール
今回、Glasgow 大学の 2 人の研究者から、大学内の最新鋭のクリーンルーム James Watt Nanofabrication Centre（JWNC）で行われている革新的なプロジェクトについて、非常に有益なお話を伺うことができました。
Jharna Paul 博士と Valentino Seferai 氏は、超伝導量子ビットの製造にオックスフォード・インストゥルメンツの PlasmaPro® 100 Cobra ICP RIE システムを使用しています。
「プラズマ、パワー、ガス供給、チャンバー圧力、基板温度を効果的にコントロールできるため、オックスフォード・インストゥルメンツの PlasmaPro 100 Cobra ICP エッチングシステムを使用しています」 Glasgow 大学助教、Jharna Paul博士
「PlasmaPro 100 ICP Cobra により、ウェハに非常に平滑な表面と側壁をエッチングすることができ、より深い構造化も可能です。UV LED に必要な、より硬い窒化アルミニウムでさえも成形することができるようになりました」
Braunschweig 工科大学シニアリサーチグループリーダー Jana Hartmann 博士
「このICP システムはエッチングレートを効果的に制御し、さらに安定したプロセスを実現します」
Glasgow 大学博士課程 Valentino Seferai
オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟な信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。
PTIQ は、PlasmaPro および Ionfab プロセスシステム用の最新のインテリジェントソフトウェアソリューションです。
ICP CVDプロセスモジュールは、低いデポジション圧力と低い温度における高密度プラズマにより、常温から400℃までの高品質薄膜を製造するように設計されています。
PECVDプロセスモジュールは、特に、優れた均質性と高速度の成膜を実現するように設計されており、屈折率や応力、電気的特性、湿式化学エッチング速度のような、薄膜特性を制御できるようになっています。
ガスポッド - 追加のガスラインを組み込み、柔軟性を高めることが可能
Logviewer ソフトウェア - データログのソフトウェアであり、リアルタイムでグラフ化するとともに、処理後の解析も可能
光学エンドポイント検出器 - 最適なプロセス実績を達成するために重要なツール
ソフトポンプ - 真空チェンバーのポンプ速度を低減することが可能
ターボ分子真空ポンプ - 優れた排気速度と、高いスループットを提供
X20 コントロールシステム - システムのインテリジェンスを高め、将来の互換性が確保できる、柔軟で信頼性の高いツール
Advanced Energy社製Paramountジェネレータ - 信頼性が増し、プラズマの安定性が向上
自動圧力制御 - 非常に高速で正確な圧力制御が可能
デュアルCMゲージ・スイッチング - 2つのレンジの異なる容量型圧力計を活用し、単一の圧力バルブの制御が可能
液体窒素自動切り替えユニット - 液体窒素（LN2）とチラー冷媒の間で、テーブル冷媒を自動的に切り替えることが可能
TEOS 液体レベルセンサー - TEOS容器に適合した、超音波レベルセンサー
広温度範囲電極 - 設計を著しく改善し、プロセス性能を向上
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