このツールは、多くの実績を持ち、90%以上の稼働率で、ウェハー装入時の迅速な立ち上がりが確実に保証されたプロセスが実現します。PlasmaPro 100シリーズは、MEMSやセンサー、光電子工学、個別素子、ナノ技術を含む、多くの市場分野に適用でき、それ以外にも対応できます。研究開発に活用できる柔軟性を持つとともに、製造ニーズにも対応できる構造も備えています。
Oxford Instruments’ PlasmaPro 100 process modules offer a 200mm platform with single wafer and multi-wafer batch capability. The process modules offer excellent uniformity, high throughput and high precision processes.
Delivers reactive species to the substrate, with a uniform high conductance path through the chamber - Allows a high gas flow to be used while maintaining low pressure
Variable height electrode - Utilises the 3-dimensional characteristics of the plasma and accommodate substrates up to 10mm thick at optimum height
Wide temperature range electrode (-150°C to +400°C) which can be cooled by liquid nitrogen, a fluid re-circulating chiller or resistively heated - An optional blow out and fluid exchange unit can automate the process of switching modes
A fluid controlled electrode fed by a re-circulating chiller unit - Excellent substrate temperature control
RF powered showerhead with optimised gas delivery - Provides uniform plasma processing with LF/RF switching allowing precise control of film stress
ICP source sizes of 65mm, 180mm, 300mm - Delivers process uniformity up to 200mm wafers
High pumping capacity - Gives wide process pressure window
Wafer clamping with He backside cooling - Optimum wafer temperature control
オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟な信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。
PTIQ is the latest intelligent software solution for PlasmaPro and Ionfab processing equipment.
ICP CVDプロセスモジュールは、低いデポジション圧力と低い温度における高密度プラズマにより、常温から400℃までの高品質薄膜を製造するように設計されています。
PECVDプロセスモジュールは、特に、優れた均質性と高速度の成膜を実現するように設計されており、屈折率や応力、電気的特性、湿式化学エッチング速度のような、薄膜特性を制御できるようになっています。
ガスポッド - 追加のガスラインを組み込み、柔軟性を高めることが可能
Logviewer ソフトウェア - データログのソフトウェアであり、リアルタイムでグラフ化するとともに、処理後の解析も可能
光学エンドポイント検出器 - 最適なプロセス実績を達成するために重要なツール
ソフトポンプ - 真空チェンバーのポンプ速度を低減することが可能
ターボ分子真空ポンプ - 優れた排気速度と、高いスループットを提供
X20 コントロールシステム - システムのインテリジェンスを高め、将来の互換性が確保できる、柔軟で信頼性の高いツール
Advanced Energy社製Paramountジェネレータ - 信頼性が増し、プラズマの安定性が向上
自動圧力制御 - 非常に高速で正確な圧力制御が可能
デュアルCMゲージ・スイッチング - 2つのレンジの異なる容量型圧力計を活用し、単一の圧力バルブの制御が可能
液体窒素自動切り替えユニット - 液体窒素(LN2)とチラー冷媒の間で、テーブル冷媒を自動的に切り替えることが可能
TEOS 液体レベルセンサー - TEOS容器に適合した、超音波レベルセンサー
広温度範囲電極 - 設計を著しく改善し、プロセス性能を向上