オックスフォード・インストゥルメンツのALD製品シリーズは、リモートプラズマALDプロセスと熱ALDを組み合わせることにより、ナノスケール構造およびデバイスの製造において、ユニークな柔軟性と性能範囲を実現します。
FlexAL ALD (原子層堆積) システムは、最適化された高品質のプラズマALDおよび熱ALDプロセスを幅広く提供し、一つのプロセスチャンバーを用いたプリカーサー、プロセスガス、ハードウェア構成に高い柔軟性を備えています。
PlasmaPro ASPは、企業/特殊研究開発向けの生産実績のあるプラットフォームをベースに、デバイスに組み込む優れた薄膜を形成することができるように設計されています。複数の化学反応が実行できるような柔軟性とともに、高速で成膜することが可能となります。当社の最先端プラズマALDシステムは、より高いスループットや膜厚を実現するためのスピードと、ALDの柔軟性、適合性、調整可能性を提供します。
Atomfab delivers fast, low damage, low COO production plasma ALD processing for GaN power and RF devices.
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