オックスフォード・インストゥルメンツのALD製品シリーズは、リモートプラズマALDプロセスと熱ALDを組み合わせることにより、ナノスケール構造およびデバイスの製造において、ユニークな柔軟性と性能範囲を実現します。
FlexALシステムは、単一のALDシステムにおいて、リモートプラズマ原子層堆積（ALD）プロセスおよび熱ALDを実現し、ナノスケール構造およびデバイスの製造において、新しい柔軟性と性能範囲を提供します。
Atomfab delivers fast, low damage, low COO production plasma ALD processing for GaN power and RF devices.
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