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PlasmaPro 80 PECVD

PlasmaPro 80は、コンパクトな省スペースのシステムであり、多様なエッチングとデポジションのソリューションを、使い易いオープンロード方式で実現します。このオープンロード方式は設置や使用が簡単で、プロセスの品質が損なわれることはありません。また、迅速なウェハの設置と取り出しを可能にし、研究やプロトタイプ、少量生産に理想的なシステムです。最適化された電極冷却および優れた基板温度制御により、高性能プロセスを実現します。

  • オープンロード設計により、迅速なウェハの設置と取り出しが可能

  • 優れたエッチング制御および最適エッチング速度を実現

  • 優れたウェハ温度の均質性を実現

  • 最大200mmまでのウェハサイズ

  • 低い所有コスト

  • 安全ガイドラインSemi S2/S8基準に準拠


お問い合わせ

  • フォトニクスや絶縁体層、パッシベーション、そして他の多くの用途について、SiNxSiO2 の高品質PECVDが可能
  • ハードマスクのデポジションおよび高輝度LED製造のエッチングに使用可能
Close up of HBLED powered display
HBLED usage in city skyline
  • コンパクト - 設置が容易
  • 最適化された電極の冷却機能 - 基板の温度制御
  • 高コンダクタンスラジアル(軸対称)ポンプを採用 - プロセスの均一性向上とエッチング速度を実現
  • 500ms以下のデータロガー機能 - チャンバーやプロセス条件のトレーサビリティと履歴を残すことが可能
  • クローズカップリング・ターボポンプ - 高いポンプスピードと優れたベース圧力
  • 主要部品への明確なアクセシビリティ - 整備性・メンテナンス性の向上
  • X20 コントロールシステム - データ検索性を大幅に向上させ、より速く、より再現性の高いマッチングを実現
  • フロントエンド・ソフトウェアによる故障診断とツール診断 - 迅速な故障診断
  • 干渉計を用いたレーザーエンドポイント検出 - 反射面上の透明材料のエッチング深さを測定(Si上の酸化物など)、または非透明材料(金属など)の反射率測定で層境界を決定
  • 大容量サンプルまたはバッチプロセスのエンドポイント測定用光学発光分光分析(OES) - エッチング副生成物の変化や反応性ガス種の消耗を検出し、チャンバークリーニングのエンドポイント測定に使用
PlasmaPro 80 カタログダウンロード

グローバルな、お客様サポート

オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟、かつ信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。

  • 遠隔診断ソフトウェアにより、迅速で簡便な欠陥診断と問題解決を実現します。
  • ご予算と状況に合わせた、サポート契約も用意しております。
  • 迅速な対応を実現するため、戦略拠点にグローバル予備品を揃えています。
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NEW: PTIQ ソフトウェア

PTIQ は、PlasmaPro および Ionfab プロセスシステム用の最新のインテリジェントソフトウェアソリューションです。

  • 卓越したレベルの応答性の高いシステム制御
  • システム、プロセスのパフォーマンスを最適化
  • お客様のご要望に合わせた様々なレベルのソフトウェア
  • 直感的なレイアウトとデザインに一新
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