オックスフォード・インストゥルメンツツの一部
拡張

FlexAL

FlexALシステムは、単一のALDシステムにおいて、リモートプラズマ原子層堆積(ALD)プロセスおよび熱ALDを実現し、ナノスケール構造およびデバイスの製造において、新しい柔軟性と性能範囲を提供します。

  • 単一の柔軟なツールにおいて、リモートプラズマと熱ALDを実現

  • 基板の真空中移送に関してクラスター化が可能

  • カセット交換式の取り扱いにより、スループットが増大し、製造に最適

  • 材料および原料プリカーサーの選択にも、高い柔軟性

  • プラズマALDにより、低温プロセスが可能

  • リモートプラズマの活用により、低損傷が可能

  • 手順主導ソフトウェアインターフェースによる、制御性および再現性の高いプロセス

  • 最大200 mmのウェハーまで取り扱い可能


お問い合わせ

ALD製品シリーズは、学術研究、企業のR&D、少量生産の多様な要求に対応できる、一連のツールのラインナップがあります。

Oxford Instruments has an extensive process library, and new processes are continually being developed. We provide free on-going process support for the lifetime of any ALD tool, offering advice on developing new materials and continued access to our latest ALD process developments including new process recipes.

Integral glove box on precursor modules - In-situ change-over

Integral ports - Allow the addition of in-situ ellipsometry measurement tools

Clusterable - Vacuum transfer of substrates

Cassette to cassette handling - Increases throughput suitable for production

Robotic handler and cassette - Handles 100mm, 150mm or 200mm wafers (no tools required to swap between wafers)

All configurations can be located entirely within the cleanroom or through-the-wall - Easy to site

Automated 200mm load lock - Process flexibility

  • Nano-electronics
  • High-k gate oxides
  • Storage capacitor dielectrics
  • High aspect ratio diffusion barriers for Cu interconnects
  • Pinhole-free passivation layers for OLEDs and polymers
  • Passivation of crystal silicon solar cells
  • Highly conformal coatings for microfluidic and MEMS applications
  • Coating of nanoporous structures
  • Bio MEMS
  • Fuel cells
ALDのカタログは、こちら

グローバルな、お客様サポート

オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟、かつ信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。

  • 遠隔診断ソフトウェアにより、迅速で簡便な欠陥診断と問題解決を実現します。
  • ご予算と状況に合わせた、サポート契約も用意しております。
  • 迅速な対応を実現するため、戦略拠点にグローバル予備品を揃えています。
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オプション

FlexAL2D

FlexAL2Dシステムは、ナノデバイス用途に向け、2D遷移金属ジカルコゲナイド(TMDC)のALDを実現するとともに、2D材料の成膜に多くのメリットを提供します。

2D 材料の成膜

  • CMOSに適合する温度が可能
  • 正確な膜厚のデジタル制御
  • 大面積ウェハー(200 mm)の処理が可能

2D材料に向けた堅牢なALDプロセス

  • 自己制限的なALD成長が可能
  • MoS2が可能
  • 無酸素かつ無炭素(2%未満)
  • 1サイクルあたり高成膜速度(最大1nm/cycle)
  • 300℃以上で結晶性材料の堆積が可能

容易な形態制御

  • 基底面または側壁面の方向性制御
  • 単一のツールで、2D材料の上に、ALD誘電体や他のALD層の成膜が可能
  • 先進的な2Dデバイス構造の生成
  • 薄膜特性の制御のための、RF基板バイアスのオプション

アップグレード・アクセサリー

ガスポッド - 追加のガスラインを組み込み、柔軟性を高めることが可能

Logviewer ソフトウェア - データログのソフトウェアであり、リアルタイムでグラフ化するとともに、処理後の解析も可能

光学エンドポイント検出器 - 最適なプロセス実績を達成するために重要なツール

ターボ分子真空ポンプ - 優れた排気速度と、高いスループットを提供

X20 コントロールシステム - システムのインテリジェンスを高め、将来の互換性が確保できる、柔軟で信頼性の高いツール

デュアルCMゲージ・スイッチング - 2つのレンジの異なる容量型圧力計を活用し、単一の圧力バルブの制御が可能

その他アプリケーション

ナノマテリアルの物性評価太陽光発電技術量子情報処理発光デバイスの製造と評価

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