プロダクト
ALD 原子層堆積Atomfab ALDFlexAL ALD
ALE 原子層エッチング
PlasmaPro 100 ALEイオンビーム
Ionfab IBEIonfab IBDソフトウェア
PTIQ Software
The PECVD プロセスモジュールは、優れた均質性と高速度の成膜を実現するように独自に設計されており、屈折率や応力、電気的特性、湿式化学エッチング速度のような、薄膜特性を制御できるようになっています。