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単一ウェハーのエッチング技術の進化
当社は、GaNやSiC、サファイアなどの材料に関する広汎な経験により、所有コストおよび必要な歩留まりを確保し、お客様のデバイス性能を最大化します。
単一ウェハーPlasaPro 100 Polarisエッチングシステムは、お客様が競争力を維持するのに必要な、優れたエッチング結果を実現する、スマートなソリューションを提供します。
優れたエッチング速度
低所有コスト
特に、過酷な化学系用途に設計
優れたエッチング均質性
サファイアをクランプすることができる、独自の静電クランプ技術
サファイアまたはシリコン上のGaNの処理が可能
高い排気速度のポンプシステム
他のPlasaProシリーズとクラスター化が可能
PlasaPro 100 Polarisは、特に、GaNやサファイア、SiCのように、エッチングが難しい材料に関わる、過酷な化学系に向けて設計されており、最大200mm直径までのウェハーにおいて、高いエッチング速度を均質に実現します。
The PlasmaPro 100 Polaris single wafer etch system offers smart solutions to produce the etch results you need to maintain your competitive edge.
Actively cooled electrode - Maintains sample temperature during etch process
High power ICP source - Produces high density plasmas
Reliable hardware and ease of serviceability - Excellent uptime
Magnetic spacer - Enhanced ion control and uniformity
Exclusive electrostatic clamp technology - Capable of clamping sapphire, GaN on sapphire and silicon
Heated chamber liners - Optimised to reduce chamber wall deposition
Advanced auto matching unit (AMU) - Allows fast, efficient and accurate matching, enabling excellent process repeatability
オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟、かつ信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。
PTIQ is the latest intelligent software solution for PlasmaPro and Ionfab processing equipment.
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