White Paper - Plasma Technology - オックスフォード・インストゥルメンツ

拡張現実

傾斜エッチング向け形状制御

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AR向け大面積スラント（傾斜）エッチング

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量子技術

ダイヤモンドおよびSiC量子デバイスの性能向上

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高性能量子ビットのための表面工学

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量子デバイス向けALD（原子層堆積）技術

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テラヘルツ分光法による200mmウェハ上のプラズマ原子層堆積TiNの非破壊電気特性評価

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レーザー

In-P系レーザーおよびフォトダイオード向け最先端プラズマソリューション

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VCSELのメサ製造に向けた先進エンドポイント制御技術

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GaAsベースVCSELにおけるメサの高歩留まり製造について

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高出力VCSELアレイのドライエッチング

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InPレーザーダイオードデバイス製造: メサの位置

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InPレーザーダイオードデバイス製造: 性能最適化のためのプラズマデポジション

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InPレーザーダイオードデバイス製造: DFB最高性能に向けたグレーチングエッチング

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バイオメディカル

ライフサイエンスおよびバイオメディカルアプリケーション向けデバイス製造: バリアおよびバイオ適合性コーティング

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ラウフサイエンスおよびバイオメディカルアプリケーション向けデバイス製造: 電子、フォトニクス、MEMSベースデバイス

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ライフサイエンスおよびバイオメディカルアプリケーション向けデバイス製造: 疎水性、親水性など機能性表面の形成

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ライフサイエンスおよびバイオメディカルアプリケーション向けデバイス製造: マイクロ流路コンポーネント製造

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電力・エネルギー

パワーエレクトロニクス・アプリケーションに向けたノーマリーオフ・リセスゲートMISHEMT の実現

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プラズマ研磨 - イノベーティブで実証済みのハイスペック SiC ウェハ前処理技術

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GaN パワーエレクトロニクス向け ALD (原子層堆積) および ALE (原子層エッチング) 技術

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SiCパワーデバイス製造向けの最先端プラズマプロセスソリューション

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原子層堆積 (ALD): 安定で高効率なペロブスカイト太陽電池を目指して

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プラズマプロセッシング: 高性能GaNオンSiC RFデバイスに不可欠なステップ

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故障解析

生産的で正確: 故障解析におけるプラズマプロセス技術の応用

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