ICPCVD ( 誘導結合プラズマCVD ) プロセスモジュールは、低温成長により高品質薄膜製造向け設計されています。高密度リモートプラズマにより、基板へのダメージが抑えられた優れた膜質を実現しています。
このICPCVD ( 誘導結合プラズマ ) プロセスモジュールは、低温で高品質の薄膜を製造するように設計され、高密度リモートプラズマによりダメージの少ない優れた薄膜特性を実現します。