オックスフォード・インストゥルメンツー事業部ページ
拡張
Collapse
オックスフォード・インストゥルメンツ
アプリケーション
プロダクト
ニュース
イベント
お問い合わせ
IR情報
採用情報
新卒採用情報
ニュース
イベント
お問い合わせ
jp
cn
jp
cn
IR情報
採用情報
About Us
当社の最新設備
当社の設備
ニュース
イベント
製造向けソリューション
研究開発向けソリューション
サステナビリティ
マーケット
2次元材料
拡張現実
バイオメディカルデバイス
故障解析
高輝度LED
MEMS・センサー
IRセンサー
レーザー
マイクロLED
パワーデバイス
量子技術
RFデバイス
VCSEL
テクノロジー
プラズマエッチング
リアクティブイオンエッチング (RIE)
プラズマRIE (RIE-PE)
誘導結合プラズマ RIE (ICP RIE)
シリコン深堀 RIE (DRIE)
プラズマ研磨ドライエッチング (PPDE)
イオンビーム
イオンビームデポジション (IBD)
イオンビームエッチング (IBE)
プラズマ デポジション
プラズマ CVD (PECVD)
誘導結合プラズマCVD (ICPCVD)
化学気相堆積 (CVD)
原子スケール
原子層堆積 (ALD)
原子層エッチング (ALE)
原子スケールプロセス (ASP)
マテリアル & プロセス
SiC
SiO
2
Al
2
O
3
Cr
AlGaN/GaN
Browse more...
プロダクト
ICP RIE エッチング
PlasmaPro 80 ICP RIE
PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE
PlasmaPro 100 Cobra GaAs VCSEL
PlasmaPro 100 Polaris ICP RIE
RIE エッチング
PlasmaPro 80 RIE
PlasmaPro 100 RIE
PlasmaPro 800 RIE
DSiE シリコン深堀エッチング
PlasmaPro 100 Estrelas DSiE
PECVD
PlasmaPro 80 PECVD
PlasmaPro 100 PECVD
PlasmaPro 800 PECVD
ICPCVD
PlasmaPro 100 ICPCVD
CVD
PlasmaPro 100 Nano CVD
ALD 原子層堆積
Atomfab ALD
PlasmaPro ASP
FlexAL ALD
ALE 原子層エッチング
PlasmaPro 100 ALE
PlasmaPro 100 with Etchpoint
イオンビーム
Ionfab IBE
Ionfab IBD
ソフトウェア
PTIQ ソフトウェア
SECS/GEM ソフトウェア
ライブラリ
ブログ
プロセスNews
ビデオ
ウェビナー
White paper (技術資料)
導入事例
カスタマーギャラリー
ユーザーからの論文のご紹介
サポート
Service & Support
サービス契約
アップグレード & ソフトウェア
PTIQ ソフトウェア
スペア
トレーニング
チームビュワー
Raise a Support Ticket
お問い合わせ
お問い合わせ
ショップ
ニュース
イベント
お問い合わせ
eコマース
アプリケーション
Characterisation of Low Dimensional Structures
ホーム
Applications
Characterisation of Low Dimensional Structures
関連:
量子技術
化学から電子輸送まで、3D、2D、1D材料の基本特性の評価
新しくタブを開く
オックスフォード・インストゥルメンツー事業部ページ
