イオンビームデポジション (IBD)

イオンビームデポジションは、多目的型で柔軟性のある、薄膜デポジション技術であり、高信頼性かつ高品質、高性能コーティングが可能です。特に、赤外線デバイスや、高出力レーザーなどの、研究用および製造用に適用できます。

IBDのメカニズム

ビームすなわち高エネルギーのイオンが、ターゲット材に衝突して原子をスパッターすることにより、原子の気体をサンプル表面に堆積させることができます。

イオンビームデポジションにより作製された薄膜層の、屈折率や光吸収、光散乱、接着性、堆積密度のような特性は、ビーム光束やエネルギーなどのビーム条件の変更や、入射原子とガスフローの方向に対する定盤の角度によって、微調整することができます。