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GaN (窒化ガリウム)

窒化ガリウム (GaN) は、いくつかの重要なテクノロジーにおいて重要な進歩を可能にする魅力的な材料です。GaNを使用した高輝度LED  (HBLED) はすでに照明に革命をもたらし、またGaNレーザーダイオードは高速データ伝送に使用され、さらにGaNベースのRFデバイスは効率的な電力伝送と携帯電話基地局にまもなく適用されます。GaNは、誘導結合プラズマ (ICP)反応性イオンエッチング (RIE)イオンビームエッチング (IBE) などを用いてドライエッチングすることができます。また、 ALD を使用して成膜することもできます。

GaN

低ダメージで優れた表面粗さと最適化されたエッチングレートを実証するために、プロセスの専門知識が活かされています。

  • シングルウェハサイズ: 最大 100mm
  • バッチサイズ: 最大 4x2"
  • シングルウェハサイズ: 最大 200mm
ICP についてさらに詳しく お問い合わせ
GaN ICP Etching

優れたエッチング速度で、異方性プロファイルを実現。

  • シングルウェハサイズ: 最大 200mm
  • バッチサイズ: 最大 6x2"
RIE についてさらに詳しく お問い合わせ

優れた選択性のプロファイル制御

  • ウェハサイズ: 最大 150mm
IBE についてさらに詳しく お問い合わせ

最高レベルの材料品質

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