化学気相堆積法 (CVD) は、ナノ材料の研究において重要な役割を担っています。この技術の柔軟性により、厚膜だけでなく原子層まで成膜することができます。PlasmaPro 100 Nanoは、in-situ 触媒活性化と厳密なプロセス制御により、ナノ材料の高性能成長を実現します。
化学気相堆積 (CVD) やプラズマCVD (PECVD) は、1Dナノ材料や 2Dナノ材料の成長、ヘテロ接合の形成に適したツールです。PlasmaPro 100 Nano (以前の名称は Nanofab) は、1,200°Cまでの温度制御、in-situ 触媒活性化、厳格なプロセス制御によりナノ材料の高い成膜特性を実現します。
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