オックスフォード・インストゥルメンツツの一部
拡張

ICPエッチングシステム

Cobra® ICPエッチング源は、非常に高密度の反応性種を、低圧力で生成します。
基板DCバイアスは、RF発生器により独立に制御でき、プロセス条件に合わせてイオンのエネルギーを制御することができます。

プロダクト群