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ICP RIE エッチングシステム

Cobra® ICPエッチングソースは、低圧で高密度の反応種を生成します。
基板の DC バイアスは RF ジェネレーターにより独立制御され、プロセス要件に応じてイオン エネルギーを制御できます。

プロダクト