誘導結合プラズマエッチング (ICP)

ICPエッチングは、広く使われている技術であり、高エッチング速度、高選択性、低損傷の処理方法です。プラズマを低圧で維持できるので、優れた形状制御も可能です。Cobra^® ICP エッチング源は、低圧において高密度の反応種を供給できます。基板DCバイアスは、RF発生器により独立に制御できますので、プロセスの必要性に応じて、イオンのエネルギーを制御することができます。