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ALD

ALD

Excellent process control
Superb thin film barrier properties
Virtually pin-hole free films

ALE

ALE

High selectivity
Low damage
Excellent uniformity

DSiE

DSiE

Precision etch processes
High selectivity
High aspect ratio

IBD

IBD

Multiple wafer handling options
Multiple mode functionality
Single wafer loadlock or cluster wafer handling

イオンビームシステム

イオンビームシステム

Multiple wafer handling options
Multiple mode functionality
Single wafer loadlock or cluster wafer handling

ICPエッチングシステム

ICPエッチングシステム

High density
Low pressure
Wide temperature range

ICPCVD

ICPCVD

Excellent quality
Low damage films
Wide temperature range

CVD システム

CVD システム

Cold wall design with showerhead
Excellent temperature uniformity
Up to 1200^oC

PECVD

PECVD

Excellent uniformity
High rate films
Excellent control of film properties

リアクティブイオンエッチング (RIE) システム

リアクティブイオンエッチング (RIE) システム

Anisotropic dry etching
Fast and consistent etching
High pumping capacity

PlasmaPro 100 ALE and Etchpoint

PlasmaPro 100 ALE and Etchpoint

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最新ニュース:

予算申請用カタログ2024が完成

2024年度オックスフォード・インストゥルメンツの予算申請用カタログが完成しました。冒頭に各製品のアプリケーションを記載し、種類別に当社の製品をご紹介しています。科学研究費などの予算申請にご利用ください。

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マイクロLEDおよびAR向けALD技術に投資が拡大中

オックスフォード・インストゥルメンツ、マイクロLED向けALD技術を英国のAR（拡張現実）および先端コンシューマー機器向け主要メーカーに供給

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当社のGaN向けALEおよびALDシステムの受注が増加

オックスフォード・インストゥルメンツ、日本の主要なパワーエレクトロニクスおよびRFデバイスファウンドリー数社からGaN向けALEおよびALDシステムを受注

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SiC結晶品質向上のための高度な測定技術

オックスフォード・インストゥルメンツ、SiC基板研磨ソリューションの結晶品質向上を確認

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