ALE と Etchpoint を組み合わせたソリューションにより、これまで困難とされてきた形状のデバイス製造が可能になります
SiCウェハ製造プロセスにおける高結晶化表面、低コスト、環境配慮の研磨ソリューション
R&D向け低ダメージ・高速バイアス ALD
2024年度オックスフォード・インストゥルメンツの予算申請用カタログが完成しました。冒頭に各製品のアプリケーションを記載し、種類別に当社の製品をご紹介しています。科学研究費などの予算申請にご利用ください。
オックスフォード・インストゥルメンツ、マイクロLED向けALD技術を英国のAR(拡張現実)および先端コンシューマー機器向け主要メーカーに供給
オックスフォード・インストゥルメンツ、日本の主要なパワーエレクトロニクスおよびRFデバイスファウンドリー数社からGaN向けALEおよびALDシステムを受注