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Nanofab

CVD/PECVDは、1D/2Dのナノ材料とヘテロ構造の成膜に適したツールです。Nanofabは、その場触媒活性化と厳格なプロセス制御により、ナノ材料の高い成膜特性を実現します。

  • 最高1200℃までの柔軟な温度制御による、優れた均質性

  • 700℃、800℃、1200℃のテーブルのオプション

  • 最大200mmまでのサンプルサイズ

  • 真空予備室-迅速なサンプル交換

  • シャワーヘッドの冷却壁設計による、均一な原料プリカーサー供給

  • MoS2、MoSe2、そして他のTMDCの成膜に向けた、液体/固体原料供給システムのオプション


お問い合わせ

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グローバルな、お客様サポート

オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟、かつ信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。

  • 遠隔診断ソフトウェアにより、迅速で簡便な欠陥診断と問題解決を実現します。
  • ご予算と状況に合わせた、サポート契約も用意しております。
  • 迅速な対応を実現するため、戦略拠点にグローバル予備品を揃えています。
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アップグレード・アクセサリー

ガスポッド - 追加のガスラインを組み込み、柔軟性を高めることが可能

ターボ分子真空ポンプ - 優れた排気速度と、高いスループットを提供

光学エンドポイント検出器 - 最適なプロセス実績を達成するために重要なツール

TEOS 液体レベルセンサー - TEOS容器に適合した、超音波レベルセンサー

その他アプリケーション

ナノマテリアルの物性評価発光デバイスの製造と評価

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