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PlasmaPro 100 Estrelas

PlasmaPro 100 Estrelas プラットフォームは、ディープシリコンエッチング(DSiE)用途に対して、全体的な柔軟性を実現するように設計されており、Micro Electro Mechanical Systems(マイクロ電気機械システム、MEMS)、そして先進パッケージとナノ技術市場全般といった、多様な必要プロセス条件に対応できます。PlasmaPro 100 Estrelasは、研究と製造の両分野を念頭に開発されており、究極のプロセス柔軟性を実現しています。

  • 滑らかな側壁を可能にするプロセス

  • 高キャビティのエッチング

  • 高アスペクト比が可能なプロセス

  • 傾斜ビアエッチング

  • 広範な応用分野

  • 機械式または静電式クランプ

  • 加熱ライナー

  • 優れた再現性

  • 洗浄間の平均時間(MTBC)の増大


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PlasmaPro 100 Estrelasは、滑らかな側壁や高キャビティ、高アスペクト比、傾斜ビアエッチングを実現し、ハードウェアチェンバーを交換することなく、MEMSや先進パッケージとナノ技術などの多様な応用を実現します。

Nano and micro structures can be realised as the hardware has been designed with the ability to run Bosch™ and Cryo etch technologies in the same chamber.

Compatible with 50mm to 200mm substrates - ensures you have the ability to develop devices that can be taken to production using the same chamber hardware

Auto match - Process flexibility

Higher flow MFCs and associated generators - High radical densities

Reduced chamber volume and high throughput pumping - Ensures high gas conductance

Fast-acting close coupled MFCs - Fast control (originally developed for ALD)

  • Silicon Bosch and cryo-etch processes
  • SiO2 and quartz etch
Estrelas のカタログのダウンロードは、こちらから

グローバルな、お客様サポート

オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟な信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。

  • 遠隔診断ソフトウェアにより、迅速で簡便な欠陥診断と問題解決を実現します。
  • ご予算と状況に合わせた、サポート契約も用意しております。
  • 迅速な対応を実現するため、戦略拠点にグローバル予備品を揃えています。
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アップグレード・アクセサリー

ガスポッド - 追加のガスラインを組み込み、柔軟性を高めることが可能

Logviewer ソフトウェア - データログのソフトウェアであり、リアルタイムでグラフ化するとともに、処理後の解析も可能

光学エンドポイント検出器 - 最適なプロセス実績を達成するために重要なツール

ソフトポンプ - 真空チェンバーのポンプ速度を低減することが可能

ターボ分子真空ポンプ - 優れた排気速度と、高いスループットを提供

X20 コントロールシステム - システムのインテリジェンスを高め、将来の互換性が確保できる、柔軟で信頼性の高いツール

Paramount先進エネルギー発生器 - 信頼性を高め、プラズマの安定性を増大

自動圧力制御 - 非常に高速で正確な圧力制御が可能

デュアルCMゲージ・スイッチング - 2つのレンジの異なる容量型圧力計を活用し、単一の圧力バルブの制御が可能

液体窒素自動切り替えユニット - 液体窒素(LN2)とチラー冷媒の間で、テーブル冷媒を自動的に切り替えることが可能

TEOS 液体レベルセンサー - TEOS容器に適合した、超音波レベルセンサー

広温度範囲電極 - 設計を著しく改善し、プロセス性能を向上

その他アプリケーション

太陽光発電技術

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